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P S ( Photo Spacer 間隙材料 ) ‧Photo spacer [...]

Positive Photoresist 正型光阻劑 正型光阻劑在TFT-LCD製程中，目前主要應用於Array段，主導TFT設計的圖形轉移; 其功能為防止光阻下之基材受蝕刻劑(etchant)的蝕刻，無論在乾蝕刻(dry etch)或濕蝕刻(wet etch)下皆可做良好的保護，不使下方基材受到侵蝕，才能製造出設計的電路圖案。正型光阻劑之解析度(Resolution)較負型光阻佳，且在熱穩定性、剝膜性、抗蝕刻能力上，其表現都優於負型光阻。 TFT的製造特別重視的是：成本的降低、產率的提高(降低Tact time)及良率的提升; [...]

相關產品資訊，請洽營業部門陳小姐。 Positive Photoresist 正型光阻劑 觸控面板(Touch panel)的市場需求日益提升，應用範圍也相當廣泛，遂吸引眾多新廠或原有LCD廠相繼投入觸控面板產業。而正型光阻劑在Touch Panel製程中，主要應用於線路及sensor設計的圖形轉移; 其功能為防止光阻下之基材受蝕刻液(etchant)的蝕刻，無論在乾蝕刻(plasma [...]