Positive Photoresist 正型光阻劑
正型光阻劑在TFT-LCD製程中，目前主要應用於Array段，主導TFT設計的圖形轉移; 其功能為防止光阻下之基材受蝕刻劑(etchant)的蝕刻，無論在乾蝕刻(dry etch)或濕蝕刻(wet etch)下皆可做良好的保護，不使下方基材受到侵蝕，才能製造出設計的電路圖案。正型光阻劑之解析度(Resolution)較負型光阻佳，且在熱穩定性、剝膜性、抗蝕刻能力上，其表現都優於負型光阻。
TFT的製造特別重視的是：成本的降低、產率的提高(降低Tact time)及良率的提升; 目前除一般array設計外，TFT-LCD已朝向高階技術發展(FFS、IPS、LTPS…)，同時array端線路設計愈發複雜且線幅要求更加精細，而正型光阻劑之解析度、高感度與高密著性正是影響著這些新技術的最大關鍵。
鎧暘 正型 系列光阻, 具有下列極佳的優勢：
(1)高解析度、高感度、高殘膜性
(2)對特殊膜上的高附著性
(3)對應各世代基板之塗佈性與線幅均一性
(4)對應循環回收使用的顯影液之顯影安定性
(5)良好的耐蝕刻性
(6)良好的剝離性
(7)低成本化
產品應用
正型光阻應用於線路的蝕刻，在目前高規格之TFT-LCD製程下，Array端的設計也日益複雜，為提高產率，而正型光阻劑的選擇及製程的調整改良是必要的。
